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デミスター（KIMRE B-GON）
実績紹介
デミスター（KIMRE B-GON）
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半導体製造機械メーカー
ウエハ洗浄装置
乾燥工程
ウエハ洗浄装置(乾燥工程)から発生するIPA溶剤を除去するスクラバー用の充填物を納入した。
ガス量：0.118m3/min
ガス温度：常温
IPAガス濃度：MAX15,000ppm〜750ppm
特に対策をしていなかった。
水スプレーにてIPA吸収ゾーン用充填物及び水ミスト除去ゾーンの
デミスターにKIMRE B-BONを設置した。
設備は設計通りで良好に稼働している。
